沈阳宇杰真空设备有限公司
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在真空镀膜设备中, 电子束蒸发源虽远较电阻加热式蒸发源复杂, 但因其能蒸镀难熔材料, 膜层纯度高, 而优于电阻加热蒸发源。
中文名电子束蒸发源外文名evaporatorwith electron beam
基本内容
电子束加热的蒸镀源有直枪型电子枪和e型电子枪两种(也有环行)、由电子发射源(通常是热的钨阴极作电子源)、电子加快电源、柑祸、磁场线圈、冷却水套等组成。膜料放入水冷增祸中，电子束自源发出，用磁场线圈使电子束聚集和偏转，对膜料进行炮击和加热。
e型电子束蒸发源所发射的电子轨道与“e” 类似，故有“e”型束源之称，简称e 型枪。它主要由发射体组件( 电子枪) 、偏转磁极靴及电子线圈、水冷坩埚及换位机构、散射电子及离子收集极等部分组成。
使用
电子束蒸发是将膜材放入水冷铜坩埚中，直接利用电子束加热，使膜材中的原子或分子从外表汽化逸出后入射到基片外表凝结成膜。
到七十年代中期, 磁偏转电子束蒸发源蒸镀提高了淀积率, 并克服了环形枪蒸镀时易发生气体放电、功率较小, 以及直枪式蒸发源占用空间大, x 射线二次电子损伤大的缺点, 而取得广泛的使用, 特别在集成电路工艺中使用, 达到了很好的效果。
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