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电子束蒸发是一种基于钨丝蒸发的真空蒸发方式。 电子束是高速电子流。 电子束蒸发是真空镀膜技术中成熟且主要的镀膜方法。 解决了在电阻加热模式下膜材料和蒸发源材料直接接触的问题。
中文名称电子束蒸发分类真空蒸发法
基本内容
电子束蒸发法是真空蒸发涂覆的方法，该方法是在真空下通过电子束直接加热和蒸发材料以蒸发掉蒸发的材料，然后将其传输到基板上以在基板上形成膜的方法。 。 在电子束加热装置中，被加热的物质被置于水冷的柑橘涡流中，以防止蒸发材料与柑橘壁反应而影响膜的质量。 因此，电子束蒸发沉积方法可以在相同的同时制备高纯度的膜。可以在蒸发沉积装置中放置多个灾难，以同时或分别蒸发并沉积多种不同的物质。 任何材料都可以通过电子束蒸发来蒸发，并且不同的材料需要不同类型的耗尽才能达到所需的蒸发速率。
优点
电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，这比常规电阻加热，高束电流密度和高蒸发速率更有效。 制得的薄膜纯度高，质量好，厚度可精确控制。 可广泛用于高纯度的制备中。 各种光学材料的薄膜，例如薄膜和导电玻璃。
电子束蒸发的特征在于在靶三维结构的任一侧上很少或没有覆盖，通常仅沉积在靶表面上。 这是电子束蒸发和溅射之间的区别。
应用
在半导体研究行业中很常见。 加速的电子能量用于撞击材料靶，从而材料靶蒸发并上升。 最终沉积到目标上。
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