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磁控溅射系统进程中，等离子体的离子碰击靶材，溅射出靶材的原子、原子团、离子、电子、光子等，原子、离子、原子团沉积到基材上构成薄膜。
溅射发生在靶材外表，靶材外表物理状况不均匀也没有关系，溅射的时分会先溅射凸起，溅射时间长了，靶材自己就平了。所以物理不均匀的状况不需要抛光。
溅射进程不影响靶材合金、混合材质的比例和性质，所以假如是外表简单蜕变的靶材，假如不抛光去除外表蜕变部分，沉积到基材上的膜层性质就是外表蜕变的杂质。
有一部分靶材在安装之前需要抛光，比方铝靶材等活性金属靶材，长期暴露在大气中，外表简单构成一层氧化皮，在直流脉冲、中频溅射进程中，离子碰击的能量不足以破坏氧化皮，所以一般在溅射的时分进行物理抛光。
一般靶材抛光后，溅射速率、电压等工艺参数比较稳定，简单控制。
所以结论就是，活性金属靶材要求外表抛光，不生动金属靶材不一定非要求外表抛光。其他非金属的靶材不需要抛光。
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